从电镀过程可以看出，改进镀层质量可以从两个方面人手：一、调整电镀溶液；二、改进电镀电源。现实中，广泛采用了改进电镀电源的方法。关于这点，可以从电镀电源的发展演变过程中看出。
电镀电源经历了四个发展阶段：
第一阶段：直流发电机阶段这种电源耗能大、效率低、噪声大。已经被淘汰。
第二阶段：硅整流阶段是直流发电机的换代产品，技术十分成熟，但效率低，体积大，控制不方便。目前，仍有许多企业使用这种电镀电源。
第三阶段：可控硅整流阶段是目前替代硅整流电源的主流电源，具有效率高、体积小、调控方便等特点。随着核心器件——可控硅技术的成熟与发展。该电源技术日趋成熟，已获得广泛应用。
第四阶段：晶体管开关电源即脉冲电源阶段脉冲电镀电源是当今最为先进的电镀电源，它的出现是电镀电源的一次革命。这种电源具有体积小、效率高、性能优越、纹波系数稳定。而且不易受输出电流影响等特点。脉冲电镀电源是发展的方向，现已开始在企业中广泛使用。
